Ио́нное распыле́ние, разрушение поверхности твёрдых тел в результате ионной бомбардировки в вакууме. Ионное распыление происходит либо в процессе т. н. катодного распыления, когда на обрабатываемое тело подаётся отрицательный потенциал, ускоряющий движение положительных ионов в направлении поверхности этого тела, либо с помощью сформированного и ускоренного до необходимой энергии потока ионов. Широко применяется в технологии электронных приборов для травления поверхности подложки, нанесения тонких плёнок путём осаждения на обрабатываемую поверхность распылённого вещества.
Аннотация