Пиролити́ческое осажде́ние, способ формирования слоёв (изолирующих, резистивных, полупроводниковых и др.) путём термического разложения вещества с выделением из него твёрдого осадка. Используется в технологии оптических, гибридных тонкоплёночных и полупроводниковых интегральных схем, при изготовлении электровакуумных приборов и оптических волокон, для получения чистых материалов и т. д. Достоинством пиролитического осаждения является особенность механизма образования плёнки: благодаря хаотическому движению молекул разлагаемого вещества в зоне реакции получают равномерные покрытия на изделиях сравнительно сложной конфигурации.