Библиографический источник

A New approach to aspect ratio independent etching

V. F. Lukichev

Заглавие:: A New approach to aspect ratio independent etching
Автор:: Lukichev V. F. (1954–)
Язык текста:: Английский
Сведения об источнике:: Microelectronic Engineering. – 1998. – Vol. 41/42. – P. 423–426.